近期，半导体界掀起了一阵小小的光刻潮，原因就是浸润式光刻技术的开创者林本坚博士获得了2018年未来科学大奖-数学与计算机科学奖，并于近日进行了多次主题演讲，使半导体光刻这项高端而又略显神秘的技术形象地展示在了业界人士面前，也使得越来越多的人对它产生了兴趣，希望能够进一步了解和研讨。
电子显微镜和光刻技术的冷场发射源存在几个长期存在的问题，例如它们固有的超高真空条件要求，电流稳定性相对较差以及发射衰减快，因此它们无法被广泛使用。本文提出了一种冷场发射电子源克服了这些问题，主要是基于使用石墨烯涂覆在镍针上的一种新型冷场点发射源。
会员中心
