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  • 四种常用的半导体硅片清洗设备及装置

    清洗的关键性则是由于随着特征尺寸的不断缩小,半导体对杂质含量越来越敏感,而半导体制造中不可避免会引入一些颗粒、有机物、金属和氧化物等污染物。为了减少杂质对芯片良率的影响,实际生产中不仅仅需要提高单次的清洗效率,还需要在几乎所有制程前后都频繁的进行清洗,清洗步骤约占整体步骤的33%。

    [技术专利] 2018-11-14 16:17

    应对臭氧污染需更广泛观测体系

    世界气象组织最新发布的一份报告显示,过去近20年欧洲和北美采取的应对空气污染举措效果显著,地表臭氧水平稳中有降,但东亚地区的臭氧水平仍在持续上升。为此,世界气象组织呼吁建立更广泛、更系统的地表臭氧观测体系。

    [行业热点] 2018-11-01 14:24

    江苏一工业园被曝偷埋化工废料:挖出数吨刺鼻黑土

    澎湃新闻记者在现场注意到,上述地块有两处开挖点发现疑似黑色污染物,重约数吨。经初步检测,其中一处的挥发性有机物出现“爆表”,PPM(体积浓度)数值超过5000。据现场检测人员称,PPM数值超过0,即说明土壤中存在污染物。

    [百方曝光台] 2018-07-16 10:08

    京津冀强化督查 环保部:挥发性有机物直排问题突出

     央视网消息:环保部对京津冀及周边地区的强化督查已经开展4个多月,近日督查组发现,北京市、河北省、山西省、河南省部分地区仍存在挥发性有机物(VOCs)排查不彻底、整改进展缓慢、违法排污等问题。

    [行业热点] 2017-08-24 15:59

    VOCs废气处理的工业应用及技术发展方向展望

    各储罐区缺乏较为全面的呼吸气成分、气量、温度、压力等实际检测数据,建议业主对各个罐区分时段分析检测,为进一步开展设计工作提供可靠的依据。

    [技术专利] 2017-07-21 14:16
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