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  • 突破5nm进军3nm,ASML、IMEC联合研发第二代EUV光刻机

    随着三星宣布7nm EUV工艺的量产,2018年EUV光刻工艺终于商业化了,这是EUV工艺研发三十年来的一个里程碑。不过EUV工艺要想大规模量产还有很多技术挑战,目前的光源功率以及晶圆产能输出还没有达到理想状态,EUV工艺还有很长的路要走。

    [行业热点] 2018-10-31 11:13

    台积电强化版7nm年底试产 晶圆级封装抵御三星

    根据中国台湾地区媒体《经济日报》报导指出,三星为了不让台积电独享苹果 A 系列处理器订单,之前规划在 7 纳米制程率最先导入先进的极紫外光技术,希望在制程进展上超越台积电。甚至,日前有传闻指出,曾经打算向生产 EUV 设备的厂商──阿斯麦(ASML),吃下一整年产量,就是为了阻碍台积电在导入 EUV 上的进度,借以拉近与台积电的差距。不过,此计划后来遭到了 ASML 的拒绝。

    [企业新闻] 2018-04-03 10:33
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