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  • 全球内存芯片供不应求：三星投资60亿美元再建生产线

    三星表示，该工厂将安装极紫外（EUV）光刻设备，这将有助于三星在超大规模集成方面保持技术领先地位。与目前使用的ArF灯相比，EUV灯具有更短的波长，并且将允许绘制尺寸小于10纳米的芯片所需的更精确和更详细的电路。

    [企业新闻] 2018-02-26 15:42
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